在電子半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)蓬勃發(fā)展的當下，超純水作為關(guān)鍵的生產(chǎn)要素，扮演著至關(guān)重要的角色。超純水在電子半導(dǎo)體制造過程中，廣泛應(yīng)用于晶圓清洗、光刻膠沖洗、蝕刻、去污、拋光等多個環(huán)節(jié)，其純度和穩(wěn)定性直接影響到半導(dǎo)體器件的性能和良品率。為此，我們公司專注于電子半導(dǎo)體超純水業(yè)務(wù)，致力于為客戶提供高品質(zhì)、高可靠的超純水解決方案，助力電子半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的持續(xù)進步與創(chuàng)新。
一、業(yè)務(wù)核心優(yōu)勢
（一）超純水制備技術(shù)先進
我們公司引進并融合了國際先進的超純水制備技術(shù)，結(jié)合電子半導(dǎo)體行業(yè)對水質(zhì)的嚴苛要求，自主研發(fā)出一套高效、穩(wěn)定的超純水制備系統(tǒng)。該系統(tǒng)采用多級過濾、反滲透、離子交換、電去離子（EDI）等工藝相結(jié)合的方式，能夠有效去除水中的懸浮物、膠體、有機物、無機鹽、微生物等雜質(zhì)，確保產(chǎn)出的超純水電阻率達到 18.2 MΩ·cm（25℃），滿足電子半導(dǎo)體工藝對超純水的最高標準。
（二）水質(zhì)監(jiān)測與控制精準
為保障超純水的持續(xù)穩(wěn)定供應(yīng)，我們公司配備了精密的水質(zhì)監(jiān)測設(shè)備和實時在線監(jiān)測系統(tǒng)。通過在線監(jiān)測超純水的電阻率、TOC（總有機碳）、pH 值、顆粒物等關(guān)鍵指標，能夠及時發(fā)現(xiàn)水質(zhì)的微小變化，并通過先進的控制系統(tǒng)自動調(diào)節(jié)制水工藝參數(shù)，確保水質(zhì)始終處于理想狀態(tài)。此外，我們還定期對水質(zhì)進行離線檢測，與在線監(jiān)測數(shù)據(jù)進行比對分析，進一步提升水質(zhì)控制的準確性與可靠性。
（三）定制化服務(wù)靈活
我們深知不同電子半導(dǎo)體企業(yè)的生產(chǎn)工藝、設(shè)備配置和用水需求存在差異，因此我們提供定制化的超純水解決方案。在與客戶合作前，我們會派遣專業(yè)的技術(shù)團隊深入客戶現(xiàn)場，詳細了解客戶的用水場景、用水量、水質(zhì)要求等信息，并結(jié)合客戶的具體需求，量身定制超純水系統(tǒng)的設(shè)計方案。無論是新建廠房的超純水系統(tǒng)規(guī)劃，還是現(xiàn)有系統(tǒng)的升級改造，我們都能提供專業(yè)、靈活的定制服務(wù)，滿足客戶的個性化需求。
二、業(yè)務(wù)應(yīng)用場景
（一）晶圓清洗
在晶圓制造過程中，清洗是至關(guān)重要的一步，超純水作為清洗劑，能夠有效去除晶圓表面的微粒、有機物和金屬離子等污染物。我們提供的超純水具有極高的純度和極低的雜質(zhì)含量，能夠確保晶圓表面的潔凈度，避免因水質(zhì)問題導(dǎo)致的晶圓缺陷，提高晶圓的良品率，為后續(xù)的光刻、蝕刻等工藝奠定堅實的基礎(chǔ)。
（二）光刻膠沖洗
光刻膠在電子半導(dǎo)體制造中用于形成微小的電路圖案，光刻膠沖洗是去除曝光后未反應(yīng)光刻膠的關(guān)鍵步驟。超純水在此過程中起到至關(guān)重要的作用，我們的超純水具有極低的離子含量和有機物含量，能夠徹底沖洗掉光刻膠殘留，同時避免對晶圓表面造成損傷或引入新的雜質(zhì)，確保光刻圖案的精確性和完整性，為后續(xù)的蝕刻和離子注入等工藝提供高質(zhì)量的圖案基礎(chǔ)。
（三）蝕刻與去污
蝕刻是將光刻圖案轉(zhuǎn)移到晶圓表面的過程，去污則是去除蝕刻過程中產(chǎn)生的副產(chǎn)物和殘留物。在這些環(huán)節(jié)中，超純水作為沖洗液，能夠有效去除蝕刻殘留的酸性或堿性物質(zhì)，以及金屬離子、顆粒物等雜質(zhì)。我們提供的超純水具有優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性和極低的雜質(zhì)含量，能夠確保蝕刻和去污過程的順利進行，避免因水質(zhì)問題導(dǎo)致的蝕刻不均勻、去污不徹底等問題，保障半導(dǎo)體器件的性能和可靠性。
（四）拋光拋光
是提高晶圓表面平整度的關(guān)鍵工藝，超純水在拋光過程中起到潤滑和冷卻的作用。我們的超純水具有極低的顆粒物含量和極高的純度，能夠有效減少拋光過程中的磨粒磨損和晶圓表面的劃傷，同時帶走拋光產(chǎn)生的熱量和磨屑，確保晶圓表面的光滑度和平整度，滿足電子半導(dǎo)體器件對晶圓表面質(zhì)量的嚴格要求。
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